場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
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產(chǎn)品名稱(chēng):
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
產(chǎn)品型號(hào):
SEM4000
產(chǎn)品展商:
REANOW/雷若科技
產(chǎn)品文檔:
無(wú)相關(guān)文檔
簡(jiǎn)單介紹
SEM4000場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡是一款分析型熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，配備了高亮度、長(zhǎng)壽命的肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 的詳細(xì)介紹
SEM4000場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡是一款分析型熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，配備了高亮度、長(zhǎng)壽命的肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍。三級(jí)磁透鏡設(shè)計(jì)，束流大且連續(xù)可調(diào)，在EDS、EBSD、WDS等應(yīng)用上具有明顯優(yōu)勢(shì)。支持低真空模式，可直接觀察導(dǎo)電性弱或不導(dǎo)電樣品。標(biāo)配的光學(xué)導(dǎo)航模式，以及直觀的操作界面，讓您的分析工作倍感輕松。
場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
*低真空模式
高分辨率
束流連續(xù)可調(diào)
*1min內(nèi)快速換樣
三級(jí)磁透鏡
無(wú)漏磁物鏡
產(chǎn)品特點(diǎn)
01
配備高亮度、長(zhǎng)壽命的肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍
02
分辨率高，30 kV下優(yōu)于1 nm的極限分辨率
03
三級(jí)磁透鏡設(shè)計(jì)，束流可調(diào)范圍大
04
*低真空模式，以及高性能的低真空二次電子探測(cè)器，可觀察導(dǎo)電性弱或不導(dǎo)電樣品
05
無(wú)漏磁物鏡設(shè)計(jì)，可直接觀察磁性樣品
06
標(biāo)配的光學(xué)導(dǎo)航模式，中文操作軟件，讓分析工作更輕松
應(yīng)用案例
PA-玻纖復(fù)合材料
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×500
二氧化硅微球
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×80000
金屬斷口
加速電壓：15 kV / 放大倍率：×5000
金屬微觀組織（鋁銅焊接件）
加速電壓：20 kV / 放大倍率：×10000
水菜花花粉
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×50000
鈦酸鍶鋇陶瓷
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×10000
鈦合金
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×5000
鈦合金
加速電壓：10 kV / 放大倍率：×10000
產(chǎn)品參數(shù)
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關(guān)鍵參數(shù)
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分辨率
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1 nm @ 30 kV，SE
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0.9 nm @ 30 kV, STEM
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加速電壓
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200 V ~ 30 kV
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放大倍率
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1 ~ 1,000,000 x
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電子槍類(lèi)型
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肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍
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樣品室
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真空系統(tǒng)
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全自動(dòng)控制
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低真空模式（選配）
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*大180Pa
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攝像頭
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雙攝像頭（光學(xué)導(dǎo)航+樣品倉(cāng)內(nèi)監(jiān)控）
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行程
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X：120 mm
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Y：115 mm
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Z：50 mm
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T: -10°~ +90°
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R: 360°
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探測(cè)器和擴(kuò)展
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標(biāo)配
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側(cè)向低角度電子探測(cè)器
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選配
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低真空二次電子探測(cè)器
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背散射電子探測(cè)器
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STEM自動(dòng)插入式掃描透射探測(cè)器
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樣品交換倉(cāng)
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EDS能譜儀
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EBSD背散射衍射
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EBIC電子束感生電流
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CL陰極熒光
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高低溫原位拉伸臺(tái)
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納米機(jī)械手
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大圖拼接
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軌跡球&旋鈕控制板
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軟件
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語(yǔ)言
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中文
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操作系統(tǒng)
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Windows
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導(dǎo)航
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光學(xué)導(dǎo)航、手勢(shì)快捷導(dǎo)航
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自動(dòng)功能
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自動(dòng)亮度對(duì)比度、自動(dòng)聚焦、自動(dòng)像散
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